Çin, yarı iletken yarışında dengeleri değiştirebilecek bir eşiğe gelmiş olabilir. Reuters’ın aktardığı bilgilere göre ülke, bugüne kadar sadece Hollandalı ASML’nin ürettiği EUV (aşırı ultraviyole) litografi makinelerine alternatif olacak ilk yerli prototipini geliştirdi. Eğer doğrulanır ve ticarileşirse, bu gelişme Çin’in çip teknolojilerinde dışa bağımlılığını azaltma yolunda atılmış en somut adımlardan biri olacak. Ayrıca dünyada Hollanda'nın bu alandaki tekel konumu da kırılmış olacak.
ÇALIŞAN BİR EUV PROTOTİPİ ÜRETİLDİ
Habere göre Çinli mühendisler, ileri seviye çip üretimi için kritik öneme sahip EUV teknolojisinde çalışan bir prototip ortaya koydu. Kaynaklar, sistemin wafer işleme için gerekli ultraviyole ışını üretebildiğini ve teknik olarak “çalışır durumda” olduğunu aktarıyor. Bu yönüyle prototip, şimdiye kadar ortaya konulan teorik ya da laboratuvar aşamasındaki denemelerden ayrılıyor.
Ancak işin bir de diğer yüzü var. Geliştirilen sistemin hâlâ eski ASML makinelerinden sökülen bazı bileşenlere bağımlı olduğu belirtiliyor. Özellikle Batılı tedarikçilerin ürettiği son derece hassas optik sistemlerin birebir kopyalanması, Çin için hâlâ ciddi bir teknik engel olarak duruyor.
BEKLENTİLERDEN DAHA HIZLI BİR İLERLEME
Nisan ayında ASML CEO’su Christophe Fouquet, Çin’in bu seviyede bir EUV teknolojisini geliştirmesinin uzun yıllar alacağını söylemişti. Reuters’ın ilk kez gündeme taşıdığı bu prototip ise bu öngörülerin sorgulanmasına neden oldu. Kısa sürede gelinen nokta, Çin’in yarı iletkenlerde bağımsızlığa tahmin edilenden daha erken yaklaşabileceğini gösteriyor.
Prototip henüz çip üretiminde aktif olarak kullanılmıyor. Kaynaklar, Çin’in EUV teknolojisini yaygın ve ticari ölçekte kullanabilir hale gelmesinin 2030 civarını bulabileceğini ifade ediyor. Bu takvim bile, ABD ile süren yarı iletken rekabeti açısından oldukça erken bir tarih olarak görülüyor.
YAPAY ZEKÂ BASKISI VE YERLİ ÇİP İHTİYACI
Çin’de yapay zekâ alanındaki hızlı büyüme, yerli ve ileri üretim teknolojilerine olan ihtiyacı daha da artırmış durumda. Huawei gibi şirketler, SMIC ile iş birliği yaparak yeni tesis ağları kuruyor ve üretim kapasitesini genişletmeye çalışıyor. SMIC’nin, mevcut kısıtlamalar altında geliştirdiği ve 5 nm sınıfına rakip olarak gösterilen N+3 üretim süreci de bu çabanın bir parçası.
Şu aşamada, Çin’in geliştirdiği EUV prototipinin özellikle ışık kaynağı, optik yapı ve diğer kritik teknik parametrelerinin nasıl çalıştığına dair detaylar net değil. Buna rağmen, ortada inkâr edilemeyecek bir gerçek var: Tüm belirsizliklerine rağmen bu prototip, Çin yarı iletken endüstrisi için önemli, hatta tarihsel bir adım olarak görülüyor.
Kaynak: HABER7.COM
#ESHAHABER.COM.TR #haber #gündem #sondakika #news #press #worldnews